随着集成电路行业的不断发展，半导体线宽越来越小，细微的污染都可能改变半导体的性质，晶圆表面痕量的无机金属离子和非金属离子都会影响芯片良品率。晶圆制造过程中，光刻工艺约占整个集成电路制造成本的35%，与大规模集成电路光刻相关材料主要有溶剂、显影剂、清洗剂、刻蚀剂和去胶剂，对其纯度的要求已经达到G4、G5的水平。
全面有效的半导体杂质控制方案
赛默飞离子色谱、电感耦合等离子体质谱、液质联用仪和气质联用仪，为半导体制造提供无机和有机杂质控制的业界高水平分析技术，除了常规痕量无机阴离子、阳离子和金属离子的检测方案外，赛家高分辨质谱还能为生产过程中产生的多种原因不明成分进行定性、定量的高解析度质量分析，为进一步提升良率提供有效的全面分析解决方案！
赛默飞世尔分析仪器助力破解半导体制造的分析难题
“Dionex ICS-6000 HPIC离子色谱仪
赛默飞离子色谱“只加水”技术，无需手配任何试剂，不会产生污染，完全满足环境空气和超纯水中ppt级、高纯试剂中ppb级阴阳离子的检测需求。支持过程实时监控分析。
“iCAP TQs ICPMS
赛默飞iCAP TQs ICPMS具有独特的变频阻抗RF发生器设计，保证冷焰和热焰的平稳切换，可以获得优异的长期稳定性，插入式进样系统和分体式炬管方便维护。优异的冷等离子体和专利平面四极杆碰撞反应池技术可消除多原子离子干扰，确保ICPMS测定获得低的检出限。
“Orbitrap Exploris 120质谱仪
Orbitrap Exploris 120高分辨质谱仪，帮助客户从复杂的背景干扰中分离得到目标物，对含量极低组分进行定性定量检测，还可对不同批次的特定产品，检测产品组成的细微差异，对其进行鉴定，找到差异产生的可能原因，满足半导体测得到、测得准、测得快的检测需求。
“Orbitrap Exploris GC 240
Orbitrap Exploris GC高分辨气质联用仪，具有质量精度高、分析动态范围宽、高灵敏度的特点，其分辨率最高可达240,000，为半导体制程中的未知物定性分析提供了可深度挖掘的原始数据，为发现新化合物、寻找低浓度关键标志物提供了可能。
助力国产半导体腾飞半导体制程化学品分析实例
电子级异丙醇（IPA）中的杂质分析
电子级异丙醇在半导体产业的硅晶片清洗、封装测试等需求量很大，其纯度对于产品的良率起到至关重要的作用。iCAP TQs ICPMS可靠稳定的RF发生器通过等离子体加氧除碳，即便在冷等离子体条件下也能获得稳定的测定结果，并结合碰撞与反应模式进一步去除多原子离子的干扰，在一次测定中可稳定切换各种测定模式，提高易用性和分析效率。
赛默飞高分辨气质联用仪，质量精度高、分析动态范围宽，其高分辨、高灵敏度的特点为痕量未知物的分析提供了更好的途径。对于目标物定性，除了采用NIST谱库以及高分辨检索外，可以通过Orbitrap/MS的高质量精确度碎片进行初步的结构推断，包括元素组成分析，同位素轮廓分析等。此外，Orbitrap Exploris GC兼具定性分析和定量分析，具有超高的灵敏度和超宽的线性范围，适合于不同含量等级的杂质定性定量分析。
四甲基氢氧化铵作为正胶显影液被广泛应用于半导体行业中，ICS-6000高压离子色谱系统配备淋洗液发生器和自动再生电解膜抑制中和系统，实现在线中和、浓缩富集、分析检测技术于一体，其灵敏度完全满足且高于 Semi 标准，符合超纯电子级 TMAH 中阴离子杂质的测定要求。
三乙醇胺中的有机杂质分析
在半导体相关材料的研发生产过程中，准确地对杂质进行鉴定和监测，可以有利于工艺方案的优化及产品质量的控制。Orbitrap Exploris 120质谱仪可实现正负切换，一针进样即可获得高精度的一级和二级质谱数据，节约方法开发的时间且能获得更可靠的结果，实现对湿电子化学品中有机杂质的解析。
半导体材料检测应用文集重磅上线！
赛默飞作为科学服务行业的领导者，凭借其离子色谱、电感耦合等离子体质谱等技术实力，开发出各类半导体材料中痕量无机阴离子、阳离子和金属离子的检测方案，帮助半导体客户实现良率的提升！此外，更有Orbitrap技术加持的材料解析技术、GDMS分析高纯材料、元素分析金标准的HR-ICPMS技术等多种独门武器，为我国半导体产业发展提供全面的分析技术支持！
